Miniaturisierte elektronenoptische Systeme

Projektleitung und Mitarbeiter

Beutter, U., Fresser, H., Frömter, R., Gross, H. (Dipl. Phys.). Herrmann, K.-H. (Prof. Dr. rer. nat.), Kern, D. P. (Prof. Dr. rer. nat.), Kleindiek, S. (Dipl. Phys.), Meier, G., Prins, F. (Dr. rer. nat.), Ziegler, W. (Dipl. Phys.), gemeinsam mit: Chang, T. H. P. (PhD, IBM Research, Yorktown Heights), Rishton, S. (PhD, IBM Research, Yorktown Heights), Staufer, U. (Dr. rer. nat., Universität Basel)

Mittelgeber : IBM

Forschungsbericht : 1994-1996

Tel./ Fax.:

Projektbeschreibung

In früheren Arbeiten wurde gezeigt, daß miniaturisierte elektronenoptische Systeme mit kritischen Dimensionen im Mikrometerbereich (Microcolumns) für niederenergetische Anwendungen in der Elektronenmikroskopie und Elektronenstrahllithographie bezüglich Sondengröße und Sondenstrom erhebliche Vorteile erwarten lassen. Auf der theoretischen Seite wurden verschiedene Strahlerzeuger und sondenbildende Linsen, z. T. unter Einsatz 'genetischer Algorithmen' optimiert. Für die experimentelle Verwirklichung wurden hochpräzise piezoelektrische Positioniereinheiten entwickelt, die die Positionierung von Feldemissionsspitzen vor Extraktorelektroden mit Verstellwegen im Millimeterbereich und sub-Nanometer Auflösung (Tunnelmikroskop-Betrieb) ermöglichen. Wegen des geringen Platzbedarfs und der hohen Empfindlichkeit für keV-Elektronen stellt die Entwicklung eines MSM-Detektors einen wesentlichen Fortschritt für die Anwendung elektronenoptischer Microcolumns dar. Die Entwicklung von mikromechanischen Prozessen zur Herstellung von Linsen und Ablenkelementen sowie der Aufbau einer UHV Anlage zur Charakterisierung von elektronenoptischen Komponenten sind im Gange.

Publikationen

Chang, T. H. P., Muray, L. P., Staufer, U., McCord, M. A., Kern, D. P.: Arrayed Lithography Using STM Based Microcolumns, Technology of Proximal Probe Lithography. In: Marrian, C.R.K., ed., pp. 127 158. SPIE 1993.

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qvf-info@uni-tuebingen.de(qvf-info@uni-tuebingen.de) - Stand: 30.11.96
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